人教版高中化学必修二《无机非金属材料》化工生产中的重要非金属元素PPT免费课件，共47页。
学习目标
结合生产、生活中各种常见的无机非金属材料的应用，了解多种硅酸盐材料、新型无机非金属材料的性能和用途
掌握晶体硅的制备原理
重难探究
重难点 高纯硅的制备
工业制备高纯硅的反应原理
(1)粗硅的制取：2C＋SiO2═════════1 800～2 000 ℃2CO↑＋Si(粗硅)。
(2)纯硅的制取：
Si＋3HCl════300 ℃SiHCl3＋H2或Si(粗硅)＋2Cl2════△SiCl4
SiHCl3＋H2════1 100 ℃Si＋3HCl或SiCl4＋2H2════高温Si(纯硅)＋4HCl。
在无机非金属材料中，硅一直扮演着主要的角色。制备纯硅的主要步骤如下：
①在1 800～2 000 ℃温度下用碳还原二氧化硅制得粗硅；
②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3：Si＋3HCl════300 ℃SiHCl3＋H2
③SiHCl3与过量H2在1 100 ℃温度下反应制得纯硅。
请回答下列问题：
(1)第①步制备粗硅反应的化学方程式为___________________。
(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点－84.7 ℃)，提纯SiHCl3采用的方法为________。
(3)从基本反应类型角度分类，步骤③中发生的反应属于________。
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是________(填字母)。
A．氯水 B．NaOH溶液
C．KSCN溶液 D．Na2SO3溶液
硅单质及其化合物应用范围很广。
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，四氯化硅(SiCl4)还原法是当前制备高纯硅的一种方法，其生产过程示意图如下：
石英砂——→焦炭高温粗硅——→HCl200 ℃以上SiCl4(粗)—→SiCl4(纯)——→H2高温高纯硅
①写出由纯SiCl4制备高纯硅的化学反应方程式：____________。
②石英砂的主要成分是SiO2，SiO2是一种酸性氧化物，能与强碱反应。其反应的离子方程式：_____________________。
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